Методы мониторинга и управления радиочастотной плазмы в современных технологических процессах / Methods of Monitoring and Control of RF Plasma in Modern Technological Processes

Агаджанян А. А. / Aghajanyan, A. A.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Ахумян А. А. / Hakhoumian, A. A.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Закарян Т. В. / Zakaryan, T. V.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Меликян А. К. / Melikyan, H. K.
Semes Co. Ltd / Semes Co. Ltd
Погосян Н. Г. / Poghosyan, N. G.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Саргсян С. Т. / Sargsyan, S. T.
Ереванский государственный университет / Yerevan State University
Выпуск в базе РИНЦ
DOI: 10.25210/jfop-1601-078087

Агаджанян А. А., Ахумян А. А., Закарян Т. В., Меликян А. К., Погосян Н. Г., Саргсян С. Т. Методы мониторинга и управления радиочастотной плазмы в современных технологических процессах // Физические основы приборостроения. 2016. Т. 5. № 1(18). С. 78–87.
Aghajanyan, A. A., Hakhoumian, A. A., Zakaryan, T. V., Melikyan, H. K., Poghosyan, N. G., Sargsyan, S. T. Methods of Monitoring and Control of RF Plasma in Modern Technological Processes // Physical Bases of Instrumentation. 2016. Vol. 5. No. 1(18). P. 78–87.

Аннотация: Целью настоящей работы является исследование современных проблем контроля радиочастотной плазмы, усовершенствование используемых методов, а также разработка новых методов, которые позволяют увеличить эффективность и надежность таких систем.

Abstract: The aim of this paper is analysis of modern problems concerning monitoring and control of RF plasma, improvement of the methods in use as well as development of new methods which lead to the increase of efficiency and reliability of such systems.

Ключевые слова: РЧ плазма, измерение разности фаз, согласование импедансов, индукция переменного магнитного поля, plasma processing of materials, RF plasma, phase shift measurement, impedance matching, РЧ плазма

Литература / References
  1. Hopkins, M., King, L. Evaluation of a Plasma Impedance Probe in Time-Varying Non-Uniform Plasma. Proc. 49th AIAA/ASME/SAE/ASEE Joint Propulsion Conference. 2013, DOI: 10.2514/6.2013-4129.
  2. Krumpholc, M., Sedlacek, M. Measurement of Phase Difference Using DSP Algorithms by Non-Coherent Sampling // Proc. 14th International Symposium on New Technologies in Measurement and Instrumentation and 10th Workshop on ADC Modelling and Testing, Gdynia/Jurata (Poland). September 12-15. 2005. Volume I. P. 229-234.
  3. Kakiuchi Hiroaki. Atmospheric-Pressure Low-Temperature Plasma Processes for Thin Film Deposition //Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 2013. Vol. 32. No3. P. 030801-030801-16.
  4. Black, D.C., Mayo, R.M. High Sensitivity, Inductively Coupled Miniature Magnetic Probe Array for Detailed Measurement of Time Varying Magnetic Field Profiles in Plasma Flows // Review of Scientific Instruments. 1996. Vol. 67. Nо.4. P. 1508-1516.
  5. Kanamaru Yuki. Magnetic Probe Array with High Sensitivity for Fluctuating Field // Review of Scientific Instruments. 2007. Vol. 78. No3. P. 036105.
  6. Ge Lei, Zhang Yuantao. A Simple Model for the Calculation of Plasma Impedance in Atmospheric Radio Frequency Discharges // Plasma Science and Technology. 2013. Vol. 16. No. 10. P. 1009.
  7. Bacelli, G., Ringwood, J.V., and Iordanov, P. Impedance Matching Controller for an Inductively Coupled Plasma Chamber: L-Type Matching Network Automatic Controller // Proc. 4th Int. Conf. On Information in Control. 2007. P. 202.
  8. Sudhir, D., Bandyopadhyay M. et al. Physics-Electrical Hybrid Model for Real Time Impedance Matching and Remote Plasma Characterization in RF Plasma Sources // Review of Scientific Instruments. 2014. Vol. 85. P. 013510.
  9. Aghajanyan, A., Hakhoumian, A., Zakaryan, T., Melikyan, A., and Poghosyan, N. Bulletin of NAS RA: Technical Ser. 2014. Vol. 67. P. 395.
  10. Aghajanyan, A., Hakhoumian, A., Poghosyan, N., Poghosyan, T., and Zakaryan, T. On the Method of Monitoring and Optimal Control of RF-Plasma // Armenian Journal of Physics. 2015. Vol. 8. No. 1. P. 44-50.