Методы мониторинга и управления радиочастотной плазмы в современных технологических процессах / Methods of Monitoring and Control of RF Plasma in Modern Technological Processes

Агаджанян А. А. / Aghajanyan, A. A.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Ахумян А. А. / Hakhoumian, A. A.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Закарян Т. В. / Zakaryan, T. V.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Меликян А. К. / Melikyan, H. K.
Semes Co. Ltd / Semes Co. Ltd
Погосян Н. Г. / Poghosyan, N. G.
Институт радиофизики и электроники НАН РА / RUS Институт радиофизики и электроники НАН РА
Саргсян С. Т. / Sargsyan, S. T.
Ереванский государственный университет / Yerevan State University
Выпуск в базе РИНЦ
DOI: 10.25210/jfop-1601-078087

Агаджанян А. А., Ахумян А. А., Закарян Т. В., Меликян А. К., Погосян Н. Г., Саргсян С. Т. Методы мониторинга и управления радиочастотной плазмы в современных технологических процессах // Физические основы приборостроения. 2016. Т. 5. № 1(18). С. 78–87.
Aghajanyan, A. A., Hakhoumian, A. A., Zakaryan, T. V., Melikyan, H. K., Poghosyan, N. G., Sargsyan, S. T. Methods of Monitoring and Control of RF Plasma in Modern Technological Processes // Physical Bases of Instrumentation. 2016. Vol. 5. No. 1(18). P. 78–87.


Аннотация: Целью настоящей работы является исследование современных проблем контроля радиочастотной плазмы, усовершенствование используемых методов, а также разработка новых методов, которые позволяют увеличить эффективность и надежность таких систем.

Abstract: The aim of this paper is analysis of modern problems concerning monitoring and control of RF plasma, improvement of the methods in use as well as development of new methods which lead to the increase of efficiency and reliability of such systems.

Ключевые слова: РЧ плазма, измерение разности фаз, согласование импедансов, индукция переменного магнитного поля, plasma processing of materials, RF plasma, phase shift measurement, impedance matching, РЧ плазма


Литература / References